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銅鍍鎳鍍金銲墊 Copper Plated With Nickel Plated With Gold Bond Pads

AMETEK COINING 銅鍍鎳鍍金銲墊(Copper Plated With Nickel Plated With Gold Bond Pads)採用高導電銅基材,表面經鎳(Ni)與金(Au)雙層電鍍處理,提供優異的導電性、耐腐蝕性、抗氧化能力及可靠的線路鍵合性能,廣泛應用於功率半導體、IC 封裝、RF 元件、LED 封裝及高可靠電子模組等產業。

Specifications 產品說明

AMETEK COINING|METAL BOND PADS

Copper Plated with Nickel Plated with Gold Bond Pads

銅鍍鎳鍍金銲墊

銅(Cu)為基材,依序電鍍鎳(Ni)金(Au)層的精密銲墊,作為電路板與電子元件之間的工程中介件。兼具高導電、高熱導、可焊接與可打線特性,並適合自動化封裝作業。

Cu 基材
Ni + Au 電鍍
Solderable & Wire Bondable
自動化包裝
PRODUCT AT A GLANCE
核心產品數據
材料結構
Cu / Ni / Au
平面尺寸
0.025×0.025 – 1×1 in
總厚度
0.005–0.020 in
製程
電鍍+沖壓
Plating & Stamping

OVERVIEW

同時可焊接與可打線的通用型金屬中介件

以銅為導電與導熱主體,並以電鍍鎳、金層兼顧焊接性、打線性與抗氧化表現。

AMETEK COINING 的銅鍍鎳鍍金銲墊,是電路板另一電子元件之間的工程中介件,用於建立穩定的電氣與熱傳導路徑。

銅基材提供高導電與高熱導特性,表面依序電鍍鎳層與金層後,兼具良好的焊接性打線性,並具耐腐蝕表現,適合自動化封裝產線導入。

此款銲墊特別適合以下條件

01 同一元件需同時焊接與打線
02 需兼顧導電、導熱與成本效益
03 導入自動化封裝與量產作業

LAYER STRUCTURE

銅基材依序電鍍鎳層與金層

三層金屬各司其職:導電導熱、介面穩定、表面接合。

層結構|Au / Ni / Cu

表層|Gold 金鍍層 可打線、抗氧化,維持接合面潔淨度
中層|Nickel 鎳鍍層 位於銅與金之間,穩定介面並提升耐腐蝕性
基材|Copper 銅 高導電、高熱導的主體,並可焊接至電路板

WHY THIS STACK

三層結構的設計邏輯

導電與導熱 由銅基材承擔主要電流與熱流路徑
介面穩定 鎳層作為銅、金之間的中間鍍層
接合可靠度 金表層維持打線與焊接的表面條件

鍍層厚度與外型可依應用需求討論,選型請洽 AMETEK SMP 台灣總代理。

相較於單一材質銲墊,Cu/Ni/Au 三層結構可在同一片元件上同時滿足「底面焊接、頂面打線」的組裝需求,減少額外轉接件與製程步驟。

KEY ADVANTAGES

銅基鍍鎳鍍金銲墊的關鍵優勢

適用於要求電氣性能、組裝彈性與量產成本平衡的封裝設計。

01 高導電性 High electrical conductivity
02 高熱導率 High thermal conductivity
03 可焊接 Solderable
04 可打線 Wire bondable
05 耐腐蝕 Corrosion-resistant
06 適合自動化包裝 Automated packaging
07 成本效益佳 Cost effective

APPLICATIONS

半導體封裝與電路板互連

適用於需在同一元件上完成焊接與打線、並導入自動化組裝的封裝流程。

SEMICONDUCTOR PACKAGING

半導體封裝與微電子

作為封裝內部的金屬中介件,建立元件與載板之間的電氣與熱傳路徑。

BOARD INTERCONNECT

電路板互連

連接電路板與另一電子元件,兼顧導電性能與接合可靠度。

AUTOMATED ASSEMBLY

自動化組裝產線

支援自動化包裝與取放作業,適合高產量、成本敏感的量產專案。

TECHNICAL SPECIFICATIONS

技術規格與材料標準

以下數據依 AMETEK COINING 官方 brochure 與產品頁整理。

Material Specifications|材料規格

材料規格
Copper(銅,基材)CDA 101/102
Nickel(鎳,鍍層)ASTM B162
Gold(金,鍍層)ASTM B562

Dimensions|尺寸

項目規格
平面尺寸(最小)0.025 × 0.025 英吋
平面尺寸(最大)1 × 1 英吋
總厚度0.005–0.020 英吋
材料結構銅基材+鎳鍍層+金鍍層
製程電鍍(Plating)+沖壓(Stamping)

Material Standards|材料標準

Copper Plated with Nickel Plated with Gold Bond Pads

Copper CDA 101/102 Nickel ASTM B162 Gold ASTM B562

標準尺寸範圍:0.025 × 0.025 英吋至 1 × 1 英吋,總厚度 0.005–0.020 英吋

實際外型、鍍層厚度與公差可依專案需求確認;亦可依指定規格提供客製化方案。

MANUFACTURING PROCESS

電鍍+沖壓製程

以電鍍建立表面功能層,再以精密沖壓成形至指定尺寸。

STEP 01 銅基材備料 選用 CDA 101/102 高導電銅材。
STEP 02 電鍍鎳層 於銅基材表面鍍上鎳層。
STEP 03 電鍍金層 再鍍金層,形成可打線的表面。
STEP 04 精密沖壓 沖壓成形至指定尺寸與外型。

FAQ

銅鍍鎳鍍金銲墊常見問題

選型前最常被詢問的技術問題。

Q1. 為什麼要在銅與金之間加一層鎳?

鎳層是銅基材與金表層之間的中間鍍層,可穩定兩者介面並提升整體耐腐蝕性,使銲墊在長期使用下維持穩定的焊接與打線表現。

Q2. 與鉬雙面包鎳銲墊該如何選擇?

若應用重點在高導電、高導熱與成本效益,且需同時可焊接與可打線,適合選用銅鍍鎳鍍金銲墊;若需與矽晶粒進行熱膨脹係數匹配(如功率二極體對散熱器),則建議選用鉬雙面包鎳銲墊。

Q3. 可提供哪些尺寸與厚度?

平面尺寸自 0.025 × 0.025 英吋起,最大可至 1 × 1 英吋見方;總厚度為 0.005–0.020 英吋。特殊尺寸與外型可另行討論。

Q4. 是採用電鍍還是包覆製程?

本產品採用電鍍(plating)搭配沖壓製程;若應用需要冶金結合的包覆(cladding)結構,可另行評估 COINING 的包覆型銲墊產品線。

Q5. 適合自動化封裝產線嗎?

適合。此款銲墊具備良好的外型一致性,可支援自動化包裝與取放作業,並在高產量專案中維持成本效益。

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